表面处理技术概论（主编刘光明-化工版）课件：第5章气相沉积技术03

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表面处理技术概论（主编刘光明-化工版）课件：第5章气相沉积技术03

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上传时间：2013/2/1 16:51:09

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资源大类：装备制造大类

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适用专业：金属表面处理技术应用

资源简介

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术具有沉积温度低（小于600℃）、应用料范围广、设备简单、基材变形小、绕度性能好、沉积层均匀、可以掺杂等特点，既克服了CVD技术沉积温度高，对基材材料要求严的缺点，又避免了PVD技术附着力较差，设备复杂等不利条件，是一种具有很大发展前景和实际应用价值的新型高效气相沉积技术。